Pbフリー圧電素子向け
AlSc/KNNスパッタリング
ターゲット

用途例

ご採用のメリット

PZT(Pb-Zr-Ti)に替わるPbフリーの圧電MEMS向けに、AlSc、KNN(K-Na-Nb)ターゲットを開発中です。

  • 従来からあるAlNに対し、AlScNは1桁高い圧電定数を期待できます。
  • 既存のAlScターゲットと比較し、圧電特性に影響する酸素の含有量を大幅に低減しています。
  • 最大約φ300mmサイズの対応が可能です。

AlSc不純物分析結果(例)

Sc組成(A)Sc組成(B)
Na<0.1<0.1ppm
K<0.1<0.1ppm
Fe120160ppm
Co<11ppm
Ni3027ppm
La12ppm
Ta<500<500ppm
C3030ppm
O490490ppm
H<10<10ppm
  • KNNは従来のPZT系圧電材料に匹敵する圧電特性を期待できます。
  • 高密度で高速成膜可能なKNNターゲットを提供可能です。
  • 最大約φ350mmサイズの対応が可能です。

KNN不純物分析結果(例)

Sc組成(B)
Li<10ppm
Al200ppm
Ca20ppm
Mn<10ppm
Fe<10ppm
Co<10ppm
Ni<10ppm
Cu<20ppm
Zr<10ppm
C90ppm

KNN成膜速度

1kWのパワーで3.0µm/hr以上の高速成膜が可能です。

AlSc・KNNの特性

Al-Sc合金の状態図

Sc 26at%~49at%の範囲で
安定した品質のターゲットをご提供します。

KNbO3-NaNbO3系の状態図

(K1-xNax)NbO3, x>0.4の範囲で安定した品質のターゲットをご提供します。

スパッタとは?

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